Q. 반도체 공정도에서 페시베이션 이라는 공정은 무엇을 하는것인가요?
안녕하세요. 전기기사 취득 후 현업에서 일하고 있는 4년차 전기 엔지니어입니다.페시베이션 공정은 반도체 제조에서 매우 중요한 단계로, 주로 반도체 소자를 보호하기 위해 적용됩니다. 구체적으로는 소자의 표면에 얇은 절연층을 형성하여 외부 환경과의 접촉을 방지하고, 전기적 특성을 안정화하는 역할을 합니다. 이 층은 보통 산화물 또는 질화물 소재로 만들어지며, 소자의 성능과 신뢰성을 향상시키는 데 중요합니다. 페시베이션 공정은 소자의 수명을 늘리고, 소자의 성능 저하를 막는 데 필수적입니다.
Q. 반도체 공정순서는 어떻게 되는지 궁금합니다.
안녕하세요. 전기기사 취득 후 현업에서 일하고 있는 4년차 전기 엔지니어 입니다.반도체 제조 공정은 매우 복잡하고 정밀한 과정을 포함합니다. 일반적으로 웨이퍼 제조, 산화, 포토리소그래피, 식각, 박막 증착, 불순물 확산, 패터닝 등의 과정을 거칩니다. 첫째, 반도체 웨이퍼가 실리콘 재료로 만들어지고, 산화 공정을 통해 표면에 산화막을 형성합니다. 포토리소그래피로 필요한 회로 패턴을 웨이퍼 위에 그린 뒤, 식각 공정으로 불필요한 부분을 제거합니다. 박막 증착으로 전도성 재료 등을 추가하고, 원하는 전기적 특성을 얻기 위해 불순물을 확산시킵니다. 각 단계는 고도의 청정실 환경에서 이루어지며, 이 과정이 여러 번 반복되어 최종적으로 완성된 반도체 칩이 생산됩니다. 이러한 정밀한 공정을 통해 수많은 트랜지스터가 집적된 소자가 만들어집니다.
Q. 반도체 공정중 포토리소 그래피 라는 공정은 무엇을 하는공정인가요?
안녕하세요. 전기기사 취득 후 현업에서 일하고 있는 4년차 전기 엔지니어입니다.포토리소그래피는 반도체 제조 공정에서 필수적인 단계로, 웨이퍼 위에 미세한 패턴을 형성하는 역할을 합니다. 이 과정을 통해 회로 패턴을 형성하고, 그 위에 다양한 재료를 증착 혹은 제거하여 반도체 소자를 제작합니다. 포토리소그래피는 자외선, 레이저 등의 빛을 사용하여 레지스트라는 감광 물질에 원하는 패턴을 형성합니다. 이후 현상 및 에칭 과정을 거쳐 원하는 회로 형상을 웨이퍼에 남깁니다. 이 과정은 반도체의 정밀성과 집적도를 높이는 데 중요한 역할을 합니다.