Q. 반도체 공정에 사용되는 노광장비에서 사용하는 광원의 종류는 반도체의 미세공정에 어떤 영향을 미치나요?
안녕하세요. 전기기사 취득 후 현업에서 일하고 있는 4년차 전기 엔지니어 입니다.노광장비에서 사용하는 광원의 종류는 반도체 미세공정의 세부화와 직결됩니다. 더 짧은 파장의 광원을 사용하면 더 작은 회로 패턴을 형성할 수 있어 고집적도 칩을 제작합니다. 기존에는 G라인과 I라인 같은 가시광선이 사용되었고, 이후에는 DUV(Deep Ultraviolet) 영역의 KrF와 ArF 엑시머 레이저가 사용되었습니다. 최근에는 EUV(Extreme Ultraviolet, 극자외선) 기술이 도입되어 더욱 정밀한 미세공정이 가능하게 되었습니다. 광원의 선택은 공정 비용과 생산량에도 영향을 줍니다. EUV는 고가이지만 차세대 공정에는 필수적입니다. 반도체 산업에서 기술력 확보가 경쟁력으로 작용하는 만큼, 노광장비의 광원 선택은 매우 중요합니다.