학문
반도체 공정에서 포토레지스트 감광의 원리는?
반도체 공정 중 포토레지스트 감광의 경우 회롤르 빛으로 그린다고 하는데, 포토레지스트가 빛에 반응해 패턴이 생기는 화학 원리가 무엇인지 궁금합니다.
2개의 답변이 있어요!
안녕하세요. 김재훈 전문가입니다.
포토레지스트는 빛을 받으면 내부의 광반응 물질이 분해되거나 활성화되어 고분자 사슬의 결합 상태가 됩니다 이로 인해 노광된 부분이 현상액에 잘 녹아 없어지거나 또는 가교되어 남게 되는 용해도 차이가 생깁니다 즉 빛이 화학 반응을 유도해 녹는 성질의 차이를 만들고 이를 이용해 미세한 회로 패턴을 형성하는 겁니다
안녕하세요. 박재화 박사입니다.
포토레지스트는 빛을 받으면 분자 구조가 화학적으로 변하도록 설계된 고분자 소재이기 때문에 그렇습니다.
노광 시 자외선을 받게 되면 내부의 감광제가 반응해서 용해도가 달라지게 됩니다. 그래서 이 차이로 인해서 현상액에 일부는 녹고, 일부는 남아서 패턴이 형성되게 되는 원리입니다.
빛을 통해 화학반응이 일어나는데, 용해도 차이가 생기는 원리라고 요약할 수 있겠네요.