Q. 현대 반도체 기술에서 무어의 법칙의 물리적 한계는 무엇일까요?
안녕하세요. 유순혁 전문가입니다.현대 반도체 기술에서 발생하는 무어의 법칙의 물리적 한계는 트랜지스터 크기가 원자 수준에 가까워질 때 양자 터널링, 열 손실, 전류 누설과 같은 문제가 발생하는 것 입니다!이를 해결하기 위해 현재 3D 적층 기술, 나노소재 활용, 새로운 반도체 구조 및 양자 컴퓨팅 같은 대체 기술을 개발하고 있습니다. 또한 집적도 대신 성능 최적화를 목표로 하는 새로운 접근 방식도 모색하고 있습니다~!
Q. 전기 회로에서 플로팅 전압의 잠재적 문제는 무엇이며, 이를 효과적으로 제거하는 방법은 무엇인가요?
안녕하세요. 유순혁 전문가입니다.플로팅 전압은 기준 전압이 불확실하여 오작동, 노이즈 증가, 감전 위험 등의 문제를 유발할 수 있습니다.이를 제거하기 위해서는 적절한 접지, 풀다운/풀업 저항 사용, 차폐 설계를 통해 안정적인 기준 전압을 확보해야 합니다.고주파와 저주파 신호 분리는 필터링 기술이 핵심이며 주로 LC필터, RLC 회로, 능동 필터가 사용됩니다~!고급 기술로는 DSP 기반 디지털 필터나 주파수 선택을 위한 밴드패스 필터를 활용해 분리 효율을 극대화 하는 방법이 있습니다~!
Q. 전자기파가 고주파 대역에서 전도체와 상호작용할 때 발생 관련하여 질문드립니다.
안녕하세요. 유순혁 전문가입니다.전자기파가 고주파 대역에서 전도체와 상호작용할 때, 주된 물리적 원리는 스킨 효과와 표면 플라즈몬 공명입니다.스킨 효과는 고주파 전류가 전도체 표면 가까이에 집중되며, 표면 플라즈몬 공명은 금속 표면에서 전자와 전자기파가 공명하여 에너지가 집중되는 현상입니다.이러한 원리는 고주파 필터, 안테나 설계, 초고속 통신 및 고감도 센서 개발에 응용됩니다~!특히 플라즈몬 공명 기반 센서는 바이오 센싱과 환경 모니터링에서 널리 사용됩니다~!