학문
반도체공정에서 3nm 이하 노드에서 발생하는 기술적 도전과제는 무엇인가요?
현재 반도체공정에서 3나노 이하 공정에서 크게 고전중입니다 그렇다면 현재 3나노 이하 노드에서 발생하는 기술적 도전과제가 무엇인지 알고 싶습니다
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1개의 답변이 있어요!
안녕하세요. 김재훈 전문가입니다.
3nm 이하 공정에서는 극도로 미세한 선폭으로 인해 양자 터널링 현상과 전류 누설 증가 소자의 정밀한 제어 어려움 등이 주요 도전 과제로 떠오릅니다 또한 극자외선 리소그래피의 해상도 한계 새로운 트랜지스터 구조의 공정 복잡성 수율 저하 등도 생산성과 신뢰성 확보에 큰 어려움을 주고 있습니다 이 외에도 전력 효율과 발열 문제까지 복합적으로 얽혀 있어 전체적인 기술 장벽이 매우 높아진 상황입니다