학문
EUV와 NIL의 차이점이 무엇인가요?
요즘 반도체에 관심을 갖게 돼서 인터넷에 검색을 하고 있었습니다. 그러던 중 EUV는 많이 들어봤는데 약간 생소한 단어를 접하게 되었습니다. 바로 NIL(Nano Imprinting Lithography)인데요, EUV와 무슨 차이가 있는 건지 궁금합니다. 그리고 EUV와 NIL 중 어떤 게 더 최신 기술인지, 그리고 어느 분야의 전망이 더 밝은지도 알고 싶습니다.
1개의 답변이 있어요!
안녕하세요. 이상현 과학전문가입니다.
EUV는 단순히 극초단파 자외선을 말합니다. 포토레지스트에 쬐어주는 자외선의 파장이 짧을수록 더 정밀한 공정이 가능합니다. 왜냐하면, 빛의 파장이 길 수록 회절특성이 많아져서 목표한 패턴과 다르게 번지는 패턴이 나타나기 때문입니다.
NIL은 공정방식중 도장을 찍어내는 방식을 이야기합니다. 원하는 모양을 미리 만들어놓고 해당 도장을 찍어 눌러놓은 뒤 자외선을 쬐주게되면 포토레지스트가 도장의 모양대로 굳게됩니다. 이러한방식은 이미 모양을 짜낸형태이기때문에 대량생산에 적합합니다.
감사합니다.