반도체 감광액(Photo Resist) 에 대해서 궁금한점들이 있습니다.
보통 PR에는 두가지 PR이 있다고 하던데
positive와 negative 가 어떻게 나눠지는지 궁금합니다.
어떤 경우에 쓰는지도 알고 싶습니다.
안녕하세요. 이영훈 과학전문가입니다.
포지티브 포토레지스트와 네거티브 포토레지스트의 차이점은 빛에 반응하는 방식입니다.
포지티브 포토레지스트는 빛에 노출되면 현상액에 더 잘 녹습니다. 즉, 현상 과정에서 빛에 노출된 레지스트의 일부가 제거되어 반도체 표면에 레지스트 패턴이 남게 됩니다.
반면 네거티브 포토레지스트는 빛에 노출되면 현상액에 대한 용해도가 낮아집니다. 즉, 빛에 노출된 레지스트 부분은 반도체 표면에 남고 노출되지 않은 부분은 현상 과정에서 제거됩니다.
포지티브 포토레지스트는 반도체에 전사해야 하는 패턴이 더 복잡하거나 해상도 요구 사항이 더 높을 때 사용됩니다.
네거티브 포토레지스트는 패턴이 더 단순하거나 해상도 요구 사항이 더 낮을 때 사용됩니다.
안녕하세요. 김학영 과학전문가입니다.반도체 감광액(Photo Resist)은 빛에 민감한 물질로, 빛을 노출시키면 화학반응을 일으키게 됩니다. 이 반응에 따라 Positive와 Negative로 나뉩니다.
Positive Photo Resist는 빛에 노출되면 반응하여 노출된 부분이 경화되고, Negative Photo Resist는 Positive Photo Resist와 반대로 빛에 노출되지 않은 부분이 경화됩니다.
안녕하세요. 정우재 과학전문가입니다.
좋은 질문 감사합니다.
흔히 알려져 있기론 PR중 positive는 빛에 노출되면 양이온을 방출한다고 알려져 있고 Negative는 반대로 양이온이 생성되지 않고 음이온이 생성된다고 알고 있습니다.
감사합니다.
