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통쾌한다슬기196
통쾌한다슬기196

반도체 식각 공정에서 헬륨 가스 용도 질문좀 드려도 될까요?

반조체 식각 공정 헬륨 가스 좀 문의드립니다.

식각공정 진행중 헬륨가스가 웨이퍼의 아랫면에서

cooling 역할을 한다고 합니다.

이 쿨링 역할이 어떤 의미이며 왜 헬륨 가스가 사용되는 건가요?


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    1개의 답변이 있어요!
    • 탈퇴한 사용자
      탈퇴한 사용자

      안녕하세요. 행복한강성가이버입니다.

      다음을 참고하시기 바랍니다.

      반도체 및 디스플레이의 식각 공정은 필요한 회로 패턴을 제외한 나머지 부분을 제거하는 공정으로, 식각가스는 반도체 선폭 미세화 및 고해상도 디스플레이에 필요한 미세회로 패턴 구현을 위한 정밀 식각에 사용됩니다.

      출처 : SK 스페셜리티

      https://www.skspecialty.com/new/kor/html/products/Business05.asp