학문
반도체 공정에서 디퓨전이라는 공정은 무엇인가요?
반도체 공정은 식각,cvd등 다양합니다.
이중에서 디퓨전(diffusion)이라는 공정이 있는데
이 공정의 의미와 기술에 대해서 좀 알려주십시요.
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2개의 답변이 있어요!
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안녕하세요! 손성민 과학전문가입니다.
디퓨전은 반도체 공정 중 하나로 반도체 소자의 성질을 조절하는 과정입니다. 디퓨전은 반도체 소자의 표면에 산화막을 형성하는 과정으로 이를 통해 반도체 소자의 전기적 특성을 조절할 수 있습니다. 이 과정에서는 고온에서 산소나 질소와 같은 기체를 이용하여 반도체 소자의 표면을 산화시키는데 이를 통해 반도체 소자의 표면에 산화막이 형성됩니다. 이렇게 형성된 산화막은 반도체 소자의 전기적 특성을 조절하는 역할을 합니다. 디퓨전은 반도체 공정 중 가장 중요한 단계 중 하나이며 반도체 소자의 성능을 결정하는 중요한 요소입니다. 감사합니다.
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안녕하세요. 손호현 과학전문가입니다.
확산(Diffusion) 공정이란 웨이퍼에 특정 불순물을 주입하여 반도체 소자 형성을 위한 특정 영역을 만드는 것입니다. 식각 과정을 거친 회로 패턴의 특정 부분에 이온 형태의 불순물을 주입하여 전자 소자의 영역을 만들어 주고, Gas간 화학 반응을 통해 형성된 물질을 웨이퍼 표면에 증착함으로써 여러가지 막을 형성하는 공정을 말합니다.