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반도체 공장이나 수술실 등에서 사용하는 에어샤워는 기류의 물리적 충격과 더불어 이온화된 공기를 분사해 정전기적 인력을 중화하여 먼지를 떨어뜨리는 원리는 무엇인가

반도체 공장이나 수술실 등에서 먼지를 제거하기 위해 사용하는 에어샤워는 기류의 물리적 충격과 더불어 이온화된 공기를 분사해 정전기적 인력을 중화하여 먼지를 떨어뜨리는 원리는 무엇인가요?

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  • 안녕하세요. 이충흔 전문가입니다.

    반도체 공장이나 수술실 입구에서 마주하는 에어샤워는 단순히 바람으로 먼지를 털어내는 장치가 아닙니다. 미세먼지가 물체 표면에 달라붙는 가장 강력한 원인인 정전기적 인력을 과학적으로 무력화하는 시스템입니다.

    ​물질은 마찰이나 접촉을 통해 전자를 얻거나 잃으면서 쉽게 전하를 띠게 됩니다. 반도체 방진복이나 정밀 부품, 혹은 미세한 먼지 입자들은 이러한 정전기를 띠고 있는 경우가 많습니다. 이때 먼지와 물체가 서로 반대 전하를 띠면 강력한 인력이 작용하여, 일반적인 바람을 세게 부는 것만으로는 먼지가 쉽게 떨어지지 않고 표면에 단단히 달라붙어 있게 됩니다.

    ​에어샤워는 이 문제를 해결하기 위해 내부에 이오나이저(Ionizer)라는 고전압 장치를 탑재합니다. 이 장치는 공기 분자를 강제로 양이온과 음이온으로 분리하여 이온화된 공기를 만들어냅니다. 에어샤워 노즐을 통해 이온화된 공기 기류가 분사되면, 방진복이나 물체 표면에 달라붙어 있던 정전기와 만나게 됩니다. 표면이 양전하를 띠고 있다면 공기 중의 음이온이, 음전하를 띠고 있다면 양전하를 가진 이온이 결합하면서 표면의 전하가 완전히 중화되어 제로 상태가 됩니다.

    ​정전기가 중화되는 순간, 먼지와 물체 표면을 붙잡고 있던 정전기적 인력이 순식간에 사라집니다. 접착력이 상실된 먼지들은 기류가 가하는 물리적인 충격(풍압)에 의해 아주 쉽게 표면에서 떨어져 나가게 됩니다. 이렇게 탈락한 먼지들은 에어샤워 하단부의 흡입구를 통해 고성능 헤파필터로 빨려 들어가며 공장 내부로의 유입이 차단됩니다. 결과적으로 에어샤워는 이온화를 통한 전하 중화라는 전기적 원리와 고속 기류라는 물리적 원리가 결합하여 미세먼지를 완벽하게 제거하는 원리로 작동합니다.

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